2025年1月29日から3日間、東京ビックサイトで開催されたnano tech2025国際ナノテクノロジー展におきまして弊社展示ブースに、ご多用のところお立ち寄り頂き、誠に有難うございました。当日は、不行き届きな点も多々あったかと存じますが、その節拝聴いたしましたご助言、ご提案を生かし、皆々様のご期待に添えますよう、今後いっそう研鑚を重ねてまいる所存です。

小間番号: 東館4　 [4M-01-03]

発表しましたテーマ

１．ナノレベル薄膜形成用　　FSCC06マイクロスプレー：コーティングケーススタディ1例
・粘度1500CPS塗布で、0.7㎜幅から細線塗布可能。
・30μ以上膜厚を1パスで塗布、糸引きしやすい液剤の安定塗布、ノズル先端のつまり解消。
・２５μ以上で指触乾燥1分以内可能、塗布効率を３０％以上アップ。
・額縁状に塗布、筋ムラ出やすい液剤も安定塗布。

２．超急速キュアオーブン：　本超速キュアオーブンは、高効率な対流と放射のコラボによる革新的流体技術により、１００μｍ以下の薄膜塗工後における乾燥リードタイムを、最大1/30以下する画期的なものです。（特許申請中）今までにない高い加熱能力、乾燥表面への安定した実効風速、非循環フローによる塗膜液表面の溶剤蒸発速度の向上、極小の乾燥炉体が特徴です。

３．基板両面塗布用「ISスプレーテーブルコーター」：　515×600㎜サイズのプリント基板にソルダーレジスト剤を両面2分 前后にて額淵状(プリント基板ハンドリングのため4側端部を未塗布可能)に塗布する高塗着効率を有した装置です。